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勻膠旋涂儀的工作原理您了解嗎?

閱讀:5202      發(fā)布時間:2021-3-27
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  勻膠旋涂儀主要用于液體,膠體在材料表面薄膜的形成,適用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷等制版表面涂覆工藝。可在科研,教育,生產(chǎn)中應用。勻膠旋涂儀主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上勻膠等工藝與光刻、烘烤等設備配合使用。

  勻膠旋涂儀的工作原理是高速旋轉基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,勻膠機常用于各種溶膠凝膠實驗中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同,也和旋轉速度及時間有關。一般來說,勻膠轉速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以*好給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達到平衡。

華儀行提供的Ossila勻膠旋涂儀,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結構小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。

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