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等離子刻蝕機(jī)采用的技術(shù)資料

閱讀:2143      發(fā)布時(shí)間:2019-12-26
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     等離子刻蝕機(jī)就是用化學(xué)的、物理的或同時(shí)使用化學(xué)和物理的方法,有選擇地把沒有被抗蝕劑掩蔽的那一部分薄膜層除去,從而在薄膜上得到和抗蝕劑膜上*一致的圖形。簡(jiǎn)單點(diǎn)說(shuō)就是通過(guò)刻蝕技術(shù)在薄膜上繪制不同的圖形,得到工藝要求的圖案。在半導(dǎo)體工藝,等離子刻蝕機(jī)按照掩模圖形或設(shè)計(jì)要求對(duì)半導(dǎo)體襯底表面或表面覆蓋薄膜進(jìn)行選擇性腐蝕或剝離的技術(shù)。

 

    等離子刻蝕機(jī)技術(shù)分為干法刻蝕和濕法刻蝕,濕法刻蝕主要是指化學(xué)刻蝕,干法刻蝕主要指等離子刻蝕和激光刻蝕。

 

    等離子刻蝕機(jī)的原理與激光打標(biāo)機(jī)相同,即通過(guò)高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬間氣化形成圖案、文字等。而與打標(biāo)機(jī)相比要求的精度更高,對(duì)材料表面的加工精度要求也更高,通常激光刻蝕機(jī)用在觸摸屏行業(yè)內(nèi)的ITO刻蝕,銀漿刻蝕等。

 

    在早些年前激光刻蝕機(jī)在行業(yè)內(nèi)幾乎都統(tǒng)稱為觸摸屏激光刻蝕機(jī),在觸摸屏行業(yè)內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用,手機(jī)電阻屏、電容屏的發(fā)展也讓激光刻蝕機(jī)廠家發(fā)展發(fā)生了質(zhì)的變化,主要體現(xiàn)為ITO玻璃激光刻蝕、銀漿玻璃激光刻蝕等,也有一部分是ITO薄膜與銀漿薄膜刻蝕。

 

    而隨著手機(jī)行業(yè)的發(fā)展,OLED的崛起,觸摸屏行業(yè)的等離子刻蝕機(jī)逐漸呈現(xiàn)飽和趨勢(shì),激光刻蝕機(jī)廠家也隨之加大對(duì)材料應(yīng)用的研發(fā)投入和應(yīng)用方向的投入,太陽(yáng)能、光伏行業(yè)將會(huì)成為激光刻蝕機(jī)下一個(gè)重要發(fā)展領(lǐng)域。

 

    太陽(yáng)能光伏行業(yè)的一些采用應(yīng)用包括金屬合金薄膜材料,如鋁薄膜,銅薄膜,鎘薄膜,合金薄膜等。也有一些玻璃鍍層和特殊材料鍍層的應(yīng)用,如碳納米玻璃材料應(yīng)用。

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