上海市某半導體廠，專注于研發(fā)和制造專業(yè)應用的晶圓。晶圓生產工藝復雜，其中蝕刻工序使用氫氟酸溶液進行蝕刻、并用高純水清洗，在這個工序中產生了大量的高濃度含氟廢水，含氟廢水經過加藥、混凝沉淀處理后達標排放。該半導體廠在總排口處安裝了一臺FBM-160氟離子濃度分析儀。根據(jù)國標《污水綜合排放標準》（GB8978-1996）以及上海市環(huán)境保護局發(fā)布的地方標準《半導體行業(yè)污染物排放標準》（DB31），該半導體廠執(zhí)行三級標準，其總排口的氟限值為20mg/L。

氟離子濃度分析儀的現(xiàn)場圖如下圖所示，控制器采用管式安裝，電極采用浸入式安裝。

FBM-160氟離子濃度分析儀采用氟離子選擇電極法，監(jiān)測方法符合國標GB7484-1987。

氟離子濃度分析儀結構簡單，氟離子電極現(xiàn)場采用浸入式安裝，在無選配自動清洗組件的前提下，每月人工清洗一次電極，三個月校準一次電極。在正常維護條件下，每年更換一次氟離子電極?，F(xiàn)場安裝方便，維護較簡單，測量值均低于20mg/L，和實驗室比對數(shù)據(jù)良好，符合用戶的測量要求。

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